光學干涉薄膜檢測技術是利用干涉現象來量測薄膜的光學常數，包括折射率（n）、消光係數（k）以及厚度（d）。其原理為：當光線垂直或以斜向入射至薄膜時，經薄膜上下界面反射（或透射）的光波，由於光程差而產生干涉現象。
光程差可表達為：=2πn-ikd cos  
該光程差與薄膜的光學常數、入射波長及入射角密切相關；當光程差符合建設性或破壞性干涉條件時，反射光的強度會出現增強或減弱的情形。隨波長改變的光強變化即形成干涉現象，而光譜的疏密程度與薄膜的光學厚度(折射率(n)乘以厚度(d）)密切相關。

光學常數的求解方法主要有「包絡法」與「光譜擬合法」兩種：

1. 包絡法
   此法透過干涉條紋中的波峰與波谷資料進行計算，適用於吸收極低的透明薄膜。然而對於膜厚過薄的薄膜，由於無明顯干涉條紋，將無法進行分析。
2. 光譜擬合法
   此方法透過建立理論模型來擬合光譜數據，進而計算出薄膜在不同波長下的折射率n(λ)和消光係數k(λ)。依薄膜的材料特性，可選擇不同模型，如：

光譜擬合法由於可使用大量光譜資料點，具有更高的準確性與適用性。