因應科技前進，光學薄膜製作之品質、良率等要求提高，傳統的石英監控以及間接光學監控方式已無法滿足，更高精度的間歇式直接光學監控系統，將成為未來光學監控技術的主流，由於可以直接監控產品，有助於降低實際產品上的光學厚度誤差，也可進一步減少了調整鍍膜參數的時間且提升產品良率，除了硬體上採用間歇式直接光學監控系統之外，在韌體上增加鍍膜監控策略計算程式，可自動計算選取監控波長及智能切點判斷演算法，即時多項式曲線擬合，可以預判轉折點位置，增加光學計算製程厚度，解決光學訊號變化小或是膜厚很薄造成不準確性，全面性改善現有停鍍點之判斷。在長製程中，完成即時持續監控產品每層鍍製薄膜品質的一致性，使鍍膜系統製作光學薄膜有高再現性。特點如下:

• 間歇式直接光學監控系統(不需要間接光學監控片)；
• 鍍膜監控策略計算程式(自動選擇監控波長)；
• 智能切點判斷演算法(即時多項式曲線擬合預判轉折點)；
• 光學計算製程厚度(解決訊號變化小造成不準確性)；